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第九十四章 芯片工艺(第4节)

等精细操作,再沉积下一层铜层。

这样的工序反复进行多次,这要视乎芯片的晶体管规模、复制程度而定。

最终形成极其复杂的多层连接电路网络。

由于现在i包含各种精细化的元件以及庞大的互联电路,结构非常复杂,实际电路层数已经高达30层,表面各种凹凸不平越来越多,高低差异很大,因此开发出p化学机械抛光技术。

每完成一层电路就进行p磨平。

另外为了顺利完成多层立体化布线,开发出大马士革法新的布线方式,镀上阻挡金属层后,整体溅镀膜,再利用p将布线之外的和阻挡金属层去除干净,形成所需布线。

芯片电路到此已经基本完成,其中经历几百道不同工艺加工,而且全部都是基于精细化操作,任何一个地方出错都会导致整片硅片报废,在100多平方毫米的硅片上制造出数十亿个晶体管,是人类有文明以来的所有智慧的结晶。

而弄得这么复杂,几百道工序下来,不过是为了在硅片上面,雕刻纹路,注入导电杂质,形成开关。