2012年约25瓦的光源相比较而言，250瓦光源意味着十倍的进步。而ASML的工程师在简报EUV生产经济学时很无奈的表示：250瓦光源功率永远都是明年的目标，哈哈。”
国产半导体一直不如外国人，国内相关从业者的信心在很长一段时间是备受打击的，这一次的突破不但是切切实实的成果突破，也给国产半导体事业的有志之士们莫大的信心。
信念这个东西听起来有点玄，尤其是从事科技工作，但有时候真的很重要，这是士气问题。
紫星光刻机成功先于ASML公司的NXE搞定，虽然对方迟早会解决这个问题，并且也不会等太久了，但这在半导体设备领域绝对是里程碑式的事件。
因为这将打破全球半导体产业链的格局，也必将会推动整个行业进入全新的时代。
罗晟看着在场的技术员们，他能看得出每一个人此刻的内心都很难平静，道：“外面总有人一直说我们技术开发不可能成功，我们的人才不如外国人。确实花了很长的时间，很大的人力、物力和财力的投入，但我们终究还是抵达了终点，走到了外面所有人都认为不可能走到的地方。”
值得一提的是，除了达成光源功率这一里程碑，还有紫星光刻机工具跌对性能的大幅改善，以及产业界在布建紫星光刻机基础建设方面的进展也传来捷报，包括光罩、光罩护膜以及光阻剂等。
队伍里出了一些猪队友，但大部分还是靠谱的。
极紫外光刻技术的突破，意味着摩尔定律的生命再次得到延续，但这不是一家两家厂商能完成的，对于国产集成电路事业而言，外国人根本不带你玩最高端的，只给你玩他们玩剩下的。
所以罗晟打造的国产半导体产业链，只能自己一点一点的搞起来，光是资金就付出了国外竞争者的五倍之多，还需要整个半导体产业链中的材料、设备、知道等各大细分领域齐心协力，就像是团队游戏闯关一般解开一道道技术难题，才能顺利的朝着目的地前进
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