晟摊手道：“在半导体这一块已经投入了这么多，除了硬着头皮往死里氪，没有退路可言。”
说到这里旋即看向李淳胜问道：“对了，半导体光刻胶这一块国内现在有哪些供应商？”
李淳胜：“有好几家，只不过他们现有的技术和市场份额跟国际顶尖水平相比差的不是一丁半点，相对来说比较知名的几家光刻胶厂商分别科华、晶锐、南达光电、容达感光、申城新阳这几家。光刻胶研究这一块，蔚蓝海岸实验室都跟着几家厂商有技术上的交流。”
罗晟点点头没有多说什么，旋即看向刚刚那位光刻胶项目负责人问道：“新思路方面的具体进展有哪些？”
“项目组正在开展负性光刻胶课题论证研究，其分子大小是CAR有机光刻胶的五分之一，重点是光吸收率可以达到CAR的四到五倍，超算验证结果显示能更精密、更准确的让电路图成型。”
罗晟从内部数据库查看了一下，自顾自地点头道：“干式光刻胶技术可以重点投入，这种全新的EUV干式光刻胶技术，取代传统的CAR光刻胶对于半导体工艺的演进大有可为，可能会是一个巨大的突破点。”
这个新技术的优势在于提升极紫外光刻技术的敏锐度和分辨率，更可以减少原本五到十倍的光刻胶使用量，在成本节约上带来显著成果。
新的技术节点下诞生的芯片，成本是很高昂的，尤其是前期阶段。
在当下业内以有机化学放大光刻胶CAR和无机光刻胶n-CAR为主导下，都是采用液态光刻胶技术，研究新型EUV光刻胶技术不只是蔚蓝海岸实验室，海外的厂商都在积极推进新技术的开发，毕竟极紫外光刻技术是大趋势，这是不会改变的事实了。
但只有蔚蓝海岸实验室的新型EUV光刻胶技术是基于干式沉淀的技术，这一点算是独创技术。
目前主流的光刻胶技术是CAR，也即是把液态光刻胶搭配涂布机设备旋涂到晶圆上，在使用溶剂曝光后再去除掉。
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