林老板考虑的是，必须要让研发占大头。
一旦研发停止，那公司的精力就要放到能赚钱的芯片应用了。
事实上，林老板考虑的也不是没有道理，如果28nm制程还没消化完毕，紧接着就上14nm，还真的会消化不良。
首先是技术基础。
国内的技术很落后，可他不是没有技术啊。
申城微电子能够量产90nm制程的光刻机，覆盖了全球60%的低端市场，中高端市场覆盖率是0%。
他们有郑策支持，不缺资金不缺人才，一直想着崛起呢。
28nm不算全球领先，但确实应用领域的重头戏，所以一直是他们攻略的对象，只是技术上还有很多难题没办法攻克。
克莱斯特提供的技术解决了所有的麻烦。
在大家的齐心协力之下，28nm的光刻机很快就被造了出来，前前后后都没花十个亿。
可是14nm制程的不一样。
理论上来说28nm的光刻机，在双倍曝光的基础下，也能够光刻14nm的芯片，但是次品率会大大增加，非常的得不偿失。
而14nm光刻机，就目前来说依旧是中高端的技术。
双倍曝光的情况下，它可以光刻7nm制程的芯片，甚至还可以四倍曝光……
28nm属于中低端技术，14nm就已经摸到了高端的边缘。
或许有人会说，荷兰的ASML已经在研发5nm光刻机，并且取得了重要的进展，但是研发出来和广泛应用不是一回事。
目前应用最广泛的，还是28nm和14nm。
要想研发14nm光刻机，需要更高端的技术，更多的人才，更多的资金。
在技术和人才等各方面基础都比较薄弱的情况下，没有百亿资金，根本没可能把14nm制程的光刻机研发出来。
28nm的光刻机，联盟科学家们给出的结论是八月份出厂
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