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第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世(第2节)

场份额第三,主要供应戴尔、索尼等PC厂商。

前世没有听说过尼康45nm干式光刻机!

全球光刻机的历史进程已经改变!

孙健不仅不担心,反而眼前一亮,BSEC雪藏了一年多的45nm制程的浸润式光刻机TWINSCANNXT:3360i,终于可以光明正大的面世了。

打电话让魏建国了解详细情况?

“董事长,邓院长说,尼康DSP-100干式光刻机虽然采用尼康公司自研的157nm波长激光器,但配备尼康公司自研的Polano偏振照明系统后,能够满足45nm制程的光刻需求,但同我们的3360i相比,他们有两个短时间很难解决的缺陷,一是氟化钙镜头的良品率低,价格昂贵,导致DSP-100的市场价定价会比我们贵50%左右;二是如今没有同45nm制程干式光刻机相匹配的磁悬浮式双工作台系统,工作效率会低15%左右。虽然尼康公司占据先发优势,但一旦3360i公布于众,英特尔和AMD都不会购买DSP-100。”

魏建国从邓国辉那里得到准确的消息后,向孙健汇报,话语中透着轻松和自信,他们也不担心。

BSEC光刻机研究院从去年4月就已经开始研发32nm制程的浸润式光刻机,今年3月就生产出了试验样机。

去年7月18日,全球第一条65nm半导体生产线在PGCA量产的消息传到尼康公司,上下震动很大,虽然尼康研发成功的65nm制程的干式光刻机NSR-S308F随时可以量产,由于各方面的原因,当时没有国际晶圆厂家愿意订购,力推157nm波长干式光刻机发展方向的顾问吉田一郎召集公司高管商议对策。

现任会长森佳照明坚持沿着既定的技术路线稳步推进,只要能率先研发成功45nm制程干式光刻机,才能一举扭转被动局面,就能继续引领全球光刻机的发展方向;研究所所长兼副总裁小川郁子和财务副总裁兰布林支持森佳照明的

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