的制程生产。」
犹豫片刻，李兴还是说：「我认为现在摆在我们面前的难题不是能不能做18微米制程，而是良品率问题。」
李兴告诉郑南原本按照无线电厂那种日夜不停的倒班生产模式，理论上能做到一个月产出一万枚以上的芯片，可无线电厂始终都没有突破两千枚的产量。
李兴表示他信任刘工的人品，他认为这不是无线电厂有意为之，实在是接触式光刻机的弊端太明显。
「由于65光刻机本质上就是一台投影曝光器，他需要将光掩模完全覆盖在光刻胶上，这其中包括烘焙控温以及覆盖和光照的多少等等，各种变量工艺太多，中间哪怕出现一点小小偏差，就能导致整张硅片报废。」李兴说。
跟后世一样，高制程推进不下去，不是制造技术方面的原因，归根结底还是缺少更好的光刻机。
「这些我知道，那我们可以试着把光掩模从光刻胶上抬起来试试看，你不是说国外新一代光刻机都是这么做的吗？」郑南问。
李兴苦笑：「厂长，这样做行不通的，因为光并不是沿直线传播的。」
李兴告诉郑南光具有波粒二象性，或许眼睛看起来光是一条直线，可当光穿过窄缝，就是呈现水波纹一样的扩散特性。
「简单说就是光在穿过一微米的窄缝以后，马上就会扩大到两微米甚至更大，甚至光掩模抬的距离越高，扩散的范围也会越大，这样反而还没原来的制程精细了。」
李兴还说光在通过几个相邻的窄缝，还会发生自己跟自己干涉的现象，导致成像更加模糊不清。
郑南扶额，看来自己对光刻机还有芯片制造工业的了解还是浅显了，没想
到只是一个制程推进，居然还牵扯到了当年逼疯爱因斯坦大佬的光的波粒二象性和双缝干涉实验上，那可是连爱因斯坦这种级别的大佬都没辙的玩意。
直接点说，就是接触式光刻法，良品率无法保证；但要是抬起来光掩模不接触光刻，精度又
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