事情。
聊完厂里的事情，杨振又和黄玲仪聊了一些光刻机方面的事情。
表示经过王益民和曾家安的牵线，工业单位的牵头之下，他和105所，微电子，以及903实验基地的领导开了个座谈会，达成了一个为期十年，每年两千万，总投资过两亿。
初始研发经费五百万，剩余一千五百万看研发成果以奖金的形式进行发放的光刻机相关研发的联合研发项目。
听到这话，黄玲仪激动的是两眼通红，表示有这个项目在。
即便现在官方不怎么重视光刻机的发展，那她也有在十年之内，不至于被国际技术拉的太远的信心。
听到这话，杨振是忍不住的想笑，心说要仅仅是不被国际光刻机技术拉的太开，自己怕就用不着这么大费周章了。
毕竟根据记忆，他很清楚虽说国内的光刻机距离国际先机的确有着十几年的差距。
但要知道即便当前世界最先进的分步式投影光刻机，那最高精度也就只有160微米。
在160微米之后，整个技术就陷入了停滞。
之所以世界芯片的发展，没有因为光刻机技术的发展而陷入停滞，那完全是因为采用了浸入式重复投影的方式来将光刻的精度提升到纳米级。
也就是说只要国内的光刻技术发展到了浸入
式光刻这一步，那么国内在光刻技术上，那就能和国际保持在同一个水平线上！
在这之后，国际虽然也为突破浸入式光刻精度的极限进行了无数次的尝试，最终才在极紫外光的方向上取得了突破。
但那已经是三十多年以后得事情了。
即便是从开始集中研发的2007年算，那也是二十多年之后的事情！
虽说在总体上，国内在光刻机的发展方面，技术的确要落后国际。
但因为自己知道历史。
所以一旦光刻机的研究进入到浸入式光刻的极限之后，他便可以直接让相
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