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走到巨大的技术路径白板前。
“所以！我提议，战略重心暂时转向！目标。
ArF光刻胶！
这是仅次于EUV的选择！西方对此有一定的技术公开和部分失效专利壁垒，但核心配方、特别是能够支持高端节点的高性能、高敏感度、低杂质、高均匀性配方的ArF胶，依旧是绝密！
我们与其强攻EUV那座无法仰望的绝壁，不如集中全龙夏的力量，给我先把ArF这座相对矮小的山头，彻底炸平！占领它！