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第一百九十四章 四十五纳米工艺突破(第2节)

加上在国内大力招揽的一流专家,所组成的技术团队本身就属于一流水平,在清一色的B级科研名额的加持下,那更是发挥出来了国际超一流的水准。

如此情况下,吴德义教授带领的制程工艺团队,这才得以持续绕过众多其他厂商的专利,逐步开发出来一套属于自身的工艺流程技术,不说百分百,但是至少也是百分之九十以上的独家技术。

趁着这一段时间,智云集团战略投资部门也没闲着,在全球范围内砸钱搜罗各种相关的专利授权,并且还利用了智云半导体的S100/200的代工订单,获得了部分联电的专利授权。

通过自研以及对外砸钱、砸订单等方式,最终才把这套四十五纳米工艺的专利问题给彻底解决。

解决了专利问题后,他们又经过了反复的各种试验,改进,最终把良率提升到了可商用的程度,也通过了智云半导体的工艺验证,后续即将对S200芯片进行正式的流片测试。

五月份中旬,徐申学带着人抵达了通城,观看了智云微电子的四十五纳米生产线的首次商业流片测试。

吴德义教授一脸春风的站在徐申学面前:

“这个S200芯片,是非常成熟的设计了,之前已经在联电那边成功流片并开始小批量的生产。”

“使用成熟芯片来进行测试,也能够更好的检验我们自研工艺的技术指标!”

“在这之前,我们其实也针对S100芯片进行了测试,试验获得了巨大的成功,根据我们这套工艺做出来的S100芯片,在主要技术指标上并不会比台积电,联电等工厂采用的制程工艺差。”

“这一次采用技术难度更高的S200芯片进行流片测试,也是为了进一步验证我们的技术能力,以及良品率!”

“之前S100测试的时候,我们的良品率还是有些差,为此我们已经进行了大量的改进,这个改进过程里光是专利就申请了三百多种,按照我们的预测,这一次的良品率应该能够达到百

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