之间也是有距离的，而控制晶体管的大小以及之间的间隔距离，就成为了衡量晶体管密度，也就是工艺节点水平的重要技术指标。
其中的两个关键数据就是晶体管的栅极间距、内部互联最小间距这两个数据指标。
这两个数据可以非常直观的体现工艺水准到底如何，智云微电子内部，把这两个数据指标作为衡量工艺节点的重要参考指标，称之为‘两间距’。
智云微电子现在的几个主要工艺制程里，如：
四十五纳米工艺是160纳米*160纳米。
三十二纳米工艺则是113纳米*113纳米。
可以看见，这两个数据，在不同工艺节点上是有着非常明显的数据缩小的。
而根据技术要求，智云微电子下一代的二十二纳米工艺，是要求把这个长宽做到九十纳米*八十纳米的，大概和英特尔的二十二纳米工艺是同一技术水准。
以上这两个核心数据，代表的是实打实的晶体管尺寸的缩小，晶体管密度的增加。
此时徐申学道：“单纯两间距数据的缩小，依旧不能很好的反应我们的3D晶体管技术所带来的巨大算力进步啊！”
“而且继续采用二十二纳米工艺这个称呼，也不太有余力商业宣传。”
“你想啊，人家水果用台积电的二十纳米工艺，你的S500系列芯片才二十二纳米工艺，岂不是弱了人家水果芯片一头。”
“这对我们后续的旗舰机销售是有不良影响的，我看了，还得改个工艺名称！”
“用十八纳米吧，比台积电的二十纳米小一号，看起来就更先进！”
丁成军没想到徐申学来了这么一番话，一时间有些语塞。
倒是一旁的季成河道：“不错，和徐董说的一样，毕竟普通人，尤其是我们的大量普通客户是不关心什么平面晶体管还是3D晶体管的！”
“不仅仅不关注，他们也不懂这些，他们只会简单直观的对比数
本章未完，请点击"下一页"继续阅读！ 第5页 / 共13页