是当下最顶级的设备，也是可以满足十四纳米工艺的生产需求的。
因此这三座工厂只需要对部分辅助设备进行升级，对工艺进行改进那么就可以无缝转产十四纳米工艺的芯片。
甚至，这三座工厂未来，其实都还能进一步升级到等效十二纳米、等效十纳米工艺……反正都是双重曝光，对核心设备的要求差别不会很大，只需要对部分非关键设备，工艺进行改进就行了。
今年下半年陆续出货的海湾科技HDUV-500光刻机，该光刻机的套刻精度三点五纳米，支持高精度双重曝光，这款光刻机是能满足10-22纳米工艺的。
真正难搞的是需要四重曝光的等效七纳米工艺……这个级别的工艺还需要更先进，套刻精度更高的光刻机。
海湾科技那边暂时还没有满足该精度的光刻机，预计中的HDUV-600，也就是套刻精度二点五纳米的光刻机要到明年下半年才能推出。
ASML那边的这种级别的光刻机，预计也是明年左右出货。
某种程度上来说，其实海湾科技已经追上了ASML的步伐。
至少在工艺精度上追上了。
就是产能，良率这些数据上还有所不如……但是海湾科技的光刻机卖的便宜，维护费用也便宜啊，最后算下来的芯片成本其实都差不多。
这也是为什么美财团那边，现在懒都得对徐申学，卡DUV浸润式光刻机的根本原因……人家徐申学都把东西给弄出来了，你还卡个毛线，卡个一年半载的也没啥卵用。
你不能指望智云这边的芯片工艺落后一年半载的，就对智云造成多大的伤害，哪有这么好的事了。
要是有这么好的事，水果和四星早完蛋了……
去年开始，水果和四星使用的芯片，在工艺上一直都落后智云一代，也没见人家倒闭啊，日子照样潇洒的很，销量节节攀升。
反正DUV浸润式光刻机领域里，卡也卡不了，自然是能趁机多卖
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