这让国内很多人，尤其是一些自诩业内人士都感叹：是我太保守了。
前几年海湾科技搞出来HDUV-400型号光刻机的时候，也引起了一片舆论的狂欢，不少业内人士也积极参与讨论。
当时也有相关的探讨，那就是：
海湾科技的光刻机，什么时候才能够追上ASML的水准。
毕竟当时的HDUV-400光刻机，其性能也就大概和NXT-1950相当。
而NXT1950出现的时候，那已经是2008年的事了，而该款光刻机也是推动半导体的芯片工艺从以往的六十五纳米，下探到32/28纳米工艺的核心设备。
或者说，正是因为有了这款光刻机，才让32/28工艺具备了大规模量产的可行性。
海湾科技可是花了好多年才弄出来了核心性能相当，但是生产效率还差一些的HDUV-400型光刻机……但是，这款光刻机历史意义重大，因为该款光刻机的出现，意味着海湾科技突破了一系列DUV浸润式光刻机的关键技术。
当时，人们所畅想的是，海湾科技继续努力，争取三年一个台阶，在解决28纳米工艺之后，三年内解决可以进行双重曝光，能够把工艺下探到10-22纳米工艺的光刻机。
至于更进一步，甚至能够进行四重曝光的光刻机，乐观估计，五年内能够解决就是巨大的胜利。
但是让人没有想到的是，海湾科技在突破了DUV浸润式光刻机的关键技术后，在小型号的快速迭代上进展迅速，几乎一年一个台阶。
去年推出HDUV-500型光刻机，把套刻精度做到了三点五纳米，实现了双重曝光的基本需求，可以用来做十四纳米工艺的芯片，一开始的性能上基本和NXT1965相当，但是不太成熟。
后来海湾科技推出了升级型号HDUV-500A，虽然工作台产能一样，不过性能更好，更稳定，这款光刻机的性能除了产能低一些，其他性能指标基本
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