B光刻机，我们的HEUV-300C光刻机，拥有更高的套刻精度，达到了一点五纳米，可以满足更高精度的芯片生产需求，目前能够支持二十层的EUV曝光，可以非常良好的支持等效五纳米工艺的芯片生产，乃至支持未来的等效三纳米工艺的生产！”
“并且光源功率也更高，生产效率也更高，其生产效率从HEUV-300B型号的每小时一百二十片，提升到了HEUV-300C的每小时一百八十片。”
“这将会带来先进工艺芯片的制造成本的整体下降，并进一步提升产能！”
“虽然这款HEUV-300C光刻机的成本更贵，售价也更贵，但是我们认为这款光刻机拥有更高的性价比！”
一旁的智云微电子的丁成军道：“不错，我们智云微电子将会采用这款最新的HEUV-300C光刻机量产等效五纳米工艺的芯片，后续的的等效三纳米工艺的前期生产，也将会使用这一款光刻机！”
“尽管HEUV-300B型号的光刻机，同样能够生产等效五纳米工艺的芯片，但是因为等效五纳米工艺芯片所需要层数更多，使用HEUV-300B光刻机的话，芯片良率不太行，生产效率不太行，成本过于高昂，所以我们已经暂停了使用这款光刻机制造五纳米工艺芯片的计划！”
第一代的HEUV-300B光刻机的每小时生产效率只有一百二十片，对比HEUV-300C的每小时一百八十片差了很多，再加上套刻精度的差距，最后导致用来生产五纳米芯片的话，就有些力不从心。
不是说不行，而是划不来！
丁成军继续道：“我们在建以及规划建设的多家晶圆厂，已经拟定采用这款HEUV-300C光刻机了，这种建造出来的晶圆厂，不仅仅能够用来制造五纳米工艺的芯片，我们也在想办法进行持续的技术升级改进后，让这种光刻机也是能够用来生产等效三纳米工艺的芯片！”
“如此能够让先机半导体工厂的高利润使用寿
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