次嘛，要解决的是光刻机的镜头问题。
一直以来，华国的光刻机项目最大难题就是光源和反射镜。
如果没有蔡司不卖给ASML那套占其整机成本近40%的、由十几面完美反射镜组成的投影镜头系统，华国的EUV光刻机就算解决了99%的问题，它也没有办法上生产线。
而随着佳能的FPA-1200NZ2C，5纳米NIL光刻机已经在申海安装调试完毕后，林燃知道解决光刻机问题的时间点到了。
由华国官方组织，提前在申海微电子所安排好了人员和场地，包括佳能的NIL光刻机也放在申海微电子所。
该来的人都到齐后，林燃才进场。
“众所周知，我们离EUV光刻机最大的差距就在于镜片，这不是人力、时间和意志能够让我们在短时间内克服的。
误差在皮米级的镜片，而且是十多面，每一面之间还要有耦合关系，这是物理极限，是材料科学和精密加工的天堑，不是靠意志就能克服的。”
会议室里，一片死寂。
林燃的这番话，大家早就知道了，内部开会也好，向上汇报也好，都反应过无数遍，这就是我们面临最大的困难，只能慢慢靠时间磨出来。
靠量堆上去，堆出一个好的结果。
还需要你跑来说？
不过在半导体领域，尽管林燃不是半导体生产制造的专家，但作为人工智能的顶级专家，左右脑芯片概念的提出者，他绝对也不是外行。
“或许，我们的思路，从一开始就错了。
我们为什么，一定要去打磨一块完美的镜片呢？我们能不能打印一块完美的镜片？”
“打印？”在座的专家们面面相觑，他们似乎抓到了一点灵感。
林燃走到幕布前，调出了一张超构透镜的结构图。
“传统的镜头，依赖的是几何光学的折射，我们通过打磨玻璃的曲面，让光线在穿过不同厚度的介质时，发生
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