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第830章 芯片进展2(第4节)

口气,才操作电脑。

投影画面切换到一个更加复杂、数据点更加稀疏且波动剧烈的图表:N+1工艺良率追踪图。

那如同癫痫患者心跳般的曲线,让所有懂行的人心里都是一沉。

“姚总、冯总,N+1工艺,我们面临的是一堵技术界的‘叹息之壁’。”他的声音干涩。

“它的目标是实现比14nm更高的晶体管密度和能效比,这要求我们在晶体管架构、新材料、新集成技术上都取得突破。

目前,我们在三个核心领域遇到了巨大的、近乎原理性的困难。”

他逐一指出图表上的几个致命低谷: