大学毕业，之后就留校任教，再然后，在那个特殊的年代里，被下放到了鄱阳湖，在那边的农场里种水稻。
1971年的某一天，他被农场负责人半夜敲门，还以为自己要完了，没想到，是首都发来急电，让他回首都，有重要任务。
徐教授扔下了稻秧，来到了首都，才知道国家要研制半导体生产的关键设备：光刻机。
当时的他，还只是助教，就去参加这种重点项目，从此，就开始了造光刻机的历史，他永远都没有忘记，当时接受任务时候的激动心情，我们祖国的半导体产业，就寄托在我们身上！
华清大学调动了五个系，数百人的研发团队，开始了辛苦的攻关，从光刻机需要的氦-氖气体激光器的研制做起，到精密导轨、丝杠、滚珠、步进电机、控制计算机、光学系统、大孔径的投影物镜等，所有的设备，都是自己设计自己制造。
就这样，东方第一台投影光刻机终于诞生！
光刻机刚刚诞生的时候，都是接触式光刻机，掩膜直接覆盖到硅片上，直至七十年代，美国Perkin-Elmer公司研制成功1:1投影式光刻机。
把光刻胶涂在硅片上，然后用光源照射，从而把该去掉的光刻胶通过光源给刻蚀掉。
最早用的是汞灯当光源，扫描台拖着硅片，和掩膜一起同步运动，光源通过狭缝变成均匀光，把图案投影到光刻胶上。
仅仅这个装置，就把芯片的良品率从百分之十提升到了百分之七十。
不过，由于要移动，所以个头比较大，结构很复杂，于是，后来美国的GCA公司，又开始搞起来了分步重复精缩投影光刻机，掩膜和硅片不需要同步移动，同时物镜还能缩小倍率，这样掩膜版的制作难度大大降低。
这个东西诞生之后，光刻机的具体技术路线，就固定下来了，之后不断提升光源，改进技术，但是基本结构是不变的，除非是后世那种3纳米芯片需要的EUV光刻机，其余的，都是这个结果。
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