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第430章 国产设备的惊喜(第2节)

表合上,“好”。

林知行点了一下头,转身往外走,走了两步又停下,“如果华科那边接口不行,我给周华建打电话,他今天不会离厂的”。

沈明轩说,“先别让他睡”。

林知行回头看他,嘴角动了下,“你也一样”。

实验室门合上,林知行的身影被隔在玻璃外,沈明轩把目光收回来,走到设备旁边,工程师已经开始接电源和数据线。

这台样机的内部光路布局比沈明轩预想得更简洁,打开维护盖后,光源模块、准直组件和耦合平台三块区域分得很清楚,工程师把线路接入控制台,参数面板亮起。

屏幕第一行显示耦合精度,数值比他们过去使用的日本设备低一个数量级,旁边几个年轻工程师看完,下意识交换了一下眼神。

沈明轩没有说话,他把参数菜单往下翻,停在控制模式那一栏。

日本设备用的是精密伺服闭环,参数锁得很死,优点是定位准,缺点是可调范围窄,过去他们所有波导侧壁粗糙度优化,都建立在那套设备的精密路径上。

华科精密这台样机不一样。

它用的是开环加软件补偿,机械精度不占优势,但光斑功率密度分布可以手动拉宽,补偿曲线也能开放到工程师端,屏幕上每一个参数栏都能点进去改。

沈明轩盯着光斑功率密度分布的设置栏,手指停在触控屏边缘。

禁运公告发布后,他这几天一直在看同一个问题,如果日本设备再也进不来,光芯实验室不能一边骂禁运,一边继续按日本设备的工艺窗口找答案。

只能用国产设备。

那就在国产设备的可调范围里找最优解。

之前他们卡在零点八,是因为梯度刻蚀的侧壁粗糙度已经压到一个平台,继续用窄而尖的光斑去修饰侧壁,边缘热影响区会很不均匀,越往下调,损耗改善越小。

如果把光斑功率密度拉宽,用开环模式做更大的软件补偿,侧壁上形成

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