最顶级的。
要么是属于全球超一流的技术水平，要么就是属于全球一流的技术水平。
在这家工厂里，根本找不到全球二流水平的设备……因为二流设备的水平，也不足以满足等效五纳米工艺的生产。
其中最为核心，也是最昂贵，同时也是技术最先进的EUV光刻机了！
HEUV-300C光刻机，拥有一点五纳米的套刻精度，这个精度足以让这款光刻机在单次曝光的情况下，就能够满足等效七纳米乃至等效五纳米工艺的量产，并且每小时的产能能够达到一百八十片，其生产效率大幅度优于上一代的HEUV-300B型光刻机。
目前这款光刻机是属于目前人类最顶级的量产型光刻机之一……之所以说是之一，那是因为荷兰ASML也拥有同级别的光刻机。
但是这两款光刻机镜片技术上有巨大的差异，海湾科技在EUV光刻机上采用的是双面反射透镜，其特征就是大幅度减少极紫外光的吸收，大幅度增加了极紫外光能量利用率，进而大幅度减少功耗，而且也降低了对光源的功率技术要求。
因为物理极限以及目前的材料学水平，极紫外光每次被镜片反射的时候，都会被吸收大约百分之三十左右的能量，因此反射镜用的越少，极紫外光的能量利用率就越高。
海湾科技用的双面反射镜系统，对比荷兰ASML的六面反射镜系统，物镜系统工程难度更低，光源系统技术难度更低，制造成本也低一些，维护也更容易，然后还有个最明显的特征，那就是耗电量更低，大概只有百分之十左右。
当然，对于对于先进工艺的芯片生产成本而言，电费成本占比不高。
先进工艺芯片的成本，其大头是半导体工厂的巨大投资成本的折旧成本，一座五纳米半导体工厂动不动上百亿美元的投资，而这些成本都需要在短短几年里进行折旧的，平摊到每一年的折旧成本就非常夸张了。
然后是大量的半导体耗材成本，如硅晶圆，
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